99.99% High Purity Titanium Target Titanium Round Target Strip Target sputtering target

Titaniumdoel

High-purity en high-density sputterende doelstellingen omvatten:
Sputterend doel (zuiverheid: 99.9%-99.999%)
Materiaal van het het Titanium het sputterende die doel van het titaniumdoel voor liquid crystal display, lasergeheugen, elektronisch controlemechanisme, sputterend dun filmmateriaal, halfgeleidergeïntegreerde schakeling, zonne photovoltaic, registrerende middelgrote, vlakke vertoning en oppervlaktedeklaag wordt gebruikt van werkstuk
Materiaal van het het Titanium het sputterende die doel van het titaniumdoel voor liquid crystal display, lasergeheugen, elektronisch controlemechanisme wordt gebruikt,

sputterend dun filmmateriaal
Wordt het het Titanium sputterende doel van het titaniumdoel gebruikt voor halfgeleidergeïntegreerde schakeling,

de zonne photovoltaic, registrerende middelgrote, vlakke vertoning en deklaag van de werkstukoppervlakte

Wij voorzien kwaliteitscontrolerapport van de goederen,

welke de chemische samenstelling en de fysische eigenschappen toont

Q: Waarom kies ons?

A1: Wij hebben 14 jaar ervarings voor titaniumproducten het maken.

A2: de steekproeforde is aanvaardbaar.

A3: lagere prijs, goede kwaliteit en korte levertijd.

A4: Het citaat kan zijn maakt binnen 24 uren.

A5: ISO9001: de certificatie van 2015

A6: Geef ons tekening, maak uw tekeningen en ideeën een werkelijkheid worden!

A7: Verstrek de rapporten van de derdekwaliteitscontrole.