Dia.3 " het Titanium Sputterend Doel 99,995% van X3mm 2N5 Ti-Metaalmateriaal

Van het het Carbide het Ceramische Doel Dia.3 " X3mm 2N5 van het tictitanium Sputterende Doel
 
Vierkante Zuivere Titanium het Sputteren Doel Hoge Zuiverheid 99,995% Cirkelti-Titanium Sputterend Doel
Titanium sputterend doel
PVD-deklaagrang 1 van het Doelti van de Titaniumboog van het het Doeltitanium het sputterende doel
Van het het Carbide het Ceramische Doel Dia.3 " x3mm 2N5 van het tictitanium Sputterende Doel
 
doel van het hoge zuiverheidsgr1 het sputterende titanium

 
Hoge zuiverheid en hoog - omvatten de dichtheids sputterende doelstellingen:
Sputterend doel (zuiverheid: 99.9% - 99,999%)
Wordt het het titanium sputterende doel van het titaniumdoel gebruikt voor liquid crystal display, lasergeheugen,
elektronisch controlemechanisme die dunne filmmaterialen, halfgeleidergeïntegreerde schakelingen sputteren,
zonne photovoltaic, registrerende media, vliegtuigvertoning en de deklaag van de werkstukoppervlakte
Q: Waarom kies ons?
A1: Wij hebben 14 jaar ervarings voor titaniumproducten het maken.
A2: de steekproeforde is aanvaardbaar.
A3: lagere prijs, goede kwaliteit en korte levertijd.
A4: Het citaat kan zijn maakt binnen 24 uren.
A5: ISO9001: de certificatie van 2015
A6: Geef ons tekening, maak uw tekeningen en ideeën een werkelijkheid worden!
A7: Verstrek de rapporten van de derdekwaliteitscontrole.