Het ronde Titanium het Sputteren Doel Gesmede CNC Machinaal bewerken

Het aangepaste Titanium van het Titaniumdoel om Doel

Omvatten High-purity en high-density titanium sputterende doelstellingen:
Titanium sputterend doel (zuiverheid: 99.9%-99.999%)

Gewoonlijk zullen wij een kwaliteitscontrolerapport als dit van de goederen voorzien,

welke de chemische samenstelling en de fysische eigenschappen toont

Q: Waarom kies ons?

A1: Wij hebben 14 jaar ervarings voor titaniumproducten het maken.

A2: de steekproeforde is aanvaardbaar.

A3: lagere prijs, goede kwaliteit en korte levertijd.

A4: Het citaat kan zijn maakt binnen 24 uren.

A5: ISO9001: de certificatie van 2015

A6: Geef ons tekening, maak uw tekeningen en ideeën een werkelijkheid worden!

A7: Verstrek de rapporten van de derdekwaliteitscontrole.

De verwerking van diverse titaniumdoelstellingen voor deklaag:

Metaaldoelstellingen: wolframdoel, molybdeendoel, tantaliumdoel, niobium doel, zirconiumdoel, kobaltdoel, vanadiumdoel, koperdoel, platinadoel, hafnium doel, niobium doel, aluminiumdoel, ijzerdoel, chromiumdoel, titanium-niobium legeringsdoel, titanium-zirconium legeringsdoel, titanium-wolfram legeringsdoel, het doel van de titanium-guilegering, titanium-aluminium doel, nikkel-chromium legeringsdoel, aluminium-chromium legeringsdoel, high-purity titaniumdoel, het doel van het ultra-hoog-zuiverheidstitanium, high-purity nikkeldoel, high-purity tantaliumdoel, polysilicon het aluminiumdoel van de Doel materieel, ultrahoog zuiverheid, (99.95%-99.999%),

Classificatie: Doel van de multi-boog het ionendeklaag, titanium vlak doel, doel van de titanium het roterende buis, de achterplaat van het titaniumdoel, de achterbuis van het titaniumdoel

Gebruik: hulpmiddeldeklaag, decoratieve deklaag, elektronische industrie, de industrie van de vlak paneelvertoning, de deklaag van het groot gebieds laag-E glas, halfgeleider, LCD, de zonne-energieindustrie, optische lens, optoelectronic industrie, ceramisch bindingsdoel, bespuitend doel, enz.

Doel van de magnetron het sputterende deklaag:
Doel van de metaal het sputterende deklaag, titanium sputterend doel, doel van de legerings het sputterende deklaag, ceramisch sputterend deklaagdoel, boride ceramisch sputterend doel, carbide ceramisch sputterend doel, fluoride ceramisch sputterend doel, nitride ceramisch sputterend doel, oxyde ceramisch doel, selenide ceramisch sputterend doel, silicide ceramisch sputterend doel, sulfide ceramisch sputterend doel, telluride ceramisch sputterend doel, ander ceramisch het oxyde ceramisch doel van het doel Materieel, chromium-gesmeerd silicium (Cr-SiO), het doel van het indiumfosfide (InP), loodarsenide doel (PbAs), indiumarsenide doel (InAs).